Ovando, Pablo David <br/><br/>
Análisis y modelado de patrones de comportamiento de aplicaciones . 

 - San Salvador de Jujuy :  Universidad Nacional. Facultad de Ingeniería,  2017. 
 - 162 p. :  il. ;  30 cm 
<br/><br/> Contiene anexos. 
<br/><br/>Bibliografía en p.153-161. 
<br/><br/><label>Subjects--Topical Terms: </label><br/>Cluster<br/>Informática<br/>Programación paralela<br/>Programas de proceso<br/>Proyecto final informática<br/>Tiempo compartido
<br/><br/><label>Index Terms--Genre/Form: </label><br/>Proyecto
<br/><br/><label>Universal Decimal Class. No.: </label>043